二羧甲基天冬氨酸四钠 ASDA-Na4

CAS No.: 34612-80-1

Molecular formula: C8H7NO8Na4

英文品名：

L-aspartic acid N, N-diacetic acid tetrasodium salt;

Tetrasodium dicarboxymethyl aspartate;

Tetrasodium N,N-bis(carboxylatomethyl)-L-aspartate;

二羧甲基天冬氨酸四钠，为无磷可生物降解螯合剂。

螯合剂也被称为络合剂、金属离子屏蔽剂，常用于水处理阻垢剂、除垢清洗剂，硬水钙镁离子控制；纺织印染和制浆造纸中，铁铜等显色金属离子屏蔽；日化洗涤中，络合金属离子，防止对产品表面活性剂性能的破坏，防止金属离子对产品的催化氧化变质作用。

具体使用中，可用于替代某些行业被欧美限制或禁用的化学品。用于一些场景下，替换不易降解螯合剂（如EDTA），含磷的有机磷类螯合剂（如HEDP），或有潜在毒性螯合剂（如NTA）。

主要用于油田化学品，日化洗涤助剂，纺织助剂，工业清洗剂，金属表面处理等。

产品特性

1.在较宽的pH范围内，与各种金属离子形成水溶性络合物。在酸性和碱性溶液中的溶解度高。

2.耐高温，长期高温环境也能保持性能稳定。

3.具有杀菌防腐增效作用，防止配方或工艺液体变色发臭。含氨基酸类螯合剂，更容易结合细胞壁，破坏细菌，提高杀菌剂使用效果。

产品参数

外观：无色到淡黄色，液体；

形态：水溶液；

pH值：＞8.5（溶液，25℃）；

密度：＞1.2 g/ml (溶液，25℃)；

规格可能会更改，恕不另行通知。

应用领域

油田化学品、洗涤剂、I&I（工业与公共设施）清洁剂、纺织印染助剂、漂白稳定剂、摄影药剂、制浆和造纸助剂、除垢和阻垢剂、金属处理加工助剂、钢板洗净剂、半导体洗净剂、铝壳防沉积（铝蚀刻）、电镀前处理剂（脱脂剂、除锈剂）、水处理药剂、农业、土壤改良剂、化妆品使用等。

潜在应用

家用和I&I清洁剂；

纺织品加工；

除垢与防垢；

金属处理加工；

水处理等。

请自行研究适用于您应用领域的法律法规和行业标准。